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SF-3/300 OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計 用非接觸的溫哈和樹脂的超高速實時、高精度的測量。OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/300OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/300OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/300
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SF-3/1300 OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計 用非接觸的溫哈和樹脂的超高速實時、高精度的測量。OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/1300OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/1300OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/1300
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SF-3/BB OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計 用非接觸的溫哈和樹脂的超高速實時、高精度的測量。OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/BBOTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/BBOTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/BB
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AT-1500 OTSUKA大冢-非接觸光學厚度計 OTSUKA大冢-非接觸光學厚度計AT-1500OTSUKA大冢-非接觸光學厚度計AT-1500OTSUKA大冢-非接觸光學厚度計AT-1500
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AT-5000 OTSUKA大冢-非接觸光學厚度計 OTSUKA大冢-非接觸光學厚度計AT-5000OTSUKA大冢-非接觸光學厚度計AT-5000OTSUKA大冢-非接觸光學厚度計AT-5000
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OTSUKA大冢-線掃描膜厚計 在線薄膜生產現場能夠對薄膜的膜厚進行全幅、全長測量的裝置。 通過在獨自的分光干涉法中組合新開發的高精度膜厚演算處理技術，以每*短0.01秒的測定間隔，可以進行500mm寬(1臺使用時)的薄膜的膜厚測定。OTSUKA大冢-線掃描膜厚計OTSUKA大冢-線掃描膜厚計
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FE-5000S OTSUKA大冢-分光器 除了能夠高精度的薄膜解析的分光中，通過實現測量角度的自動可變機構，也對應于所有種類的薄膜。除以往的旋轉檢光子法之外，通過設置相位差版的自動脫穿機構，提高了測定精度。OTSUKA大冢-分光器FE-5000SOTSUKA大冢-分光器FE-5000SOTSUKA大冢-分光器FE-5000S
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FE-5000 OTSUKA大冢-分光器 除了能夠高精度的薄膜解析的分光中，通過實現測量角度的自動可變機構，也對應于所有種類的薄膜。除以往的旋轉檢光子法之外，通過設置相位差版的自動脫穿機構，提高了測定精度。OTSUKA大冢-分光器FE-5000OTSUKA大冢-分光器FE-5000OTSUKA大冢-分光器FE-5000
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MCPD series OTSUKA大冢-膜厚測定用多頻道分光器MCPD seriesOTSUKA大冢-膜厚測定用多頻道分光器MCPD seriesOTSUKA大冢-膜厚測定用多頻道分光器MCPD series
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FE-300 OTSUKA大冢-膜厚監視器 是一種通過簡單操作實現高精度光干涉法的膜厚測量的小型低價格的膜厚計。 采用將必要的機器收納在機身部位的一體化體型外殼，實現了穩定的數據的獲取 通過獲取低價位的優良反射率，也可以進行光學常數的分析。OTSUKA大冢-膜厚監視器FE-300OTSUKA大冢-膜厚監視器FE-300
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FE-3000 OTSUKA大冢-反射性的分鐘光膜厚計 利用顯微的微小領域的優良反射率的取得，通過高精度的光干涉法的膜厚解析可能的裝置。 多種多樣的樣品的膜厚·光，除了半導體領域的圖案樣品、透鏡和鉆孔之類的形狀樣品之外，還有表面粗糙度和膜厚不均的樣品。能夠進行定數分析。OTSUKA大冢-反射性的分鐘光膜厚計FE-3000OTSUKA大冢-反射性的分鐘光膜厚計FE-3000
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OPTM series OTSUKA大冢- 顯微分光膜厚計OPTM seriesOTSUKA大冢- 顯微分光膜厚計OPTM seriesOTSUKA大冢- 顯微分光膜厚計OPTM series
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GP-7 series 1000 OTSUKA大冢-高速近場配光測量系統 是光源單體和光學材料的配光的裝置.。 OTSUKA大冢-高速近場配光測量系統GP-7series1000OTSUKA大冢-高速近場配光測量系統GP-7series1000
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GP-7 series 600 OTSUKA大冢-高速近場配光測量系統 是光源單體和光學材料的配光的裝置.。 OTSUKA大冢-高速近場配光測量系統GP-7series600OTSUKA大冢-高速近場配光測量系統GP-7series600
