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        • 流體設備纏繞泵CSKT型小坂研究所(KOSAKA)是于1950年創立,日本**家發表光學幹槓桿表面粗糙度計,具有悠久歷史與技術背景的專業廠商,主要有測定/自動/流體三大部門。XP操作系統為多種不同表面提供**的形貌分析,有半導體硅片、太陽能硅片、薄膜磁頭及磁盤、MEMS、光電子、精加工表面、生物醫學器件、薄膜/化學涂層以及平板顯示等。
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        • 流體設備纏繞泵CVB型小坂研究所(KOSAKA)是于1950年創立,日本**家發表光學幹槓桿表面粗糙度計,具有悠久歷史與技術背景的專業廠商,主要有測定/自動/流體三大部門。XP操作系統為多種不同表面提供**的形貌分析,有半導體硅片、太陽能硅片、薄膜磁頭及磁盤、MEMS、光電子、精加工表面、生物醫學器件、薄膜/化學涂層以及平板顯示等。
        • 流體設備纏繞泵CHS型小坂研究所(KOSAKA)是于1950年創立,日本**家發表光學幹槓桿表面粗糙度計,具有悠久歷史與技術背景的專業廠商,主要有測定/自動/流體三大部門。XP操作系統為多種不同表面提供**的形貌分析,有半導體硅片、太陽能硅片、薄膜磁頭及磁盤、MEMS、光電子、精加工表面、生物醫學器件、薄膜/化學涂層以及平板顯示等。
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        • 流體設備纏繞泵CHD型小坂研究所(KOSAKA)是于1950年創立,日本**家發表光學幹槓桿表面粗糙度計,具有悠久歷史與技術背景的專業廠商,主要有測定/自動/流體三大部門。XP操作系統為多種不同表面提供**的形貌分析,有半導體硅片、太陽能硅片、薄膜磁頭及磁盤、MEMS、光電子、精加工表面、生物醫學器件、薄膜/化學涂層以及平板顯示等。
        • 流體設備纏繞泵CHM型小坂研究所(KOSAKA)是于1950年創立,日本**家發表光學幹槓桿表面粗糙度計,具有悠久歷史與技術背景的專業廠商,主要有測定/自動/流體三大部門。XP操作系統為多種不同表面提供**的形貌分析,有半導體硅片、太陽能硅片、薄膜磁頭及磁盤、MEMS、光電子、精加工表面、生物醫學器件、薄膜/化學涂層以及平板顯示等。
        • 流體設備纏繞泵CHM-B小坂研究所(KOSAKA)是于1950年創立,日本**家發表光學幹槓桿表面粗糙度計,具有悠久歷史與技術背景的專業廠商,主要有測定/自動/流體三大部門。XP操作系統為多種不同表面提供**的形貌分析,有半導體硅片、太陽能硅片、薄膜磁頭及磁盤、MEMS、光電子、精加工表面、生物醫學器件、薄膜/化學涂層以及平板顯示等。
        • 無密封泵磁力耦合泵小坂研究所(KOSAKA)是于1950年創立,日本**家發表光學幹槓桿表面粗糙度計,具有悠久歷史與技術背景的專業廠商,主要有測定/自動/流體三大部門。XP操作系統為多種不同表面提供**的形貌分析,有半導體硅片、太陽能硅片、薄膜磁頭及磁盤、MEMS、光電子、精加工表面、生物醫學器件、薄膜/化學涂層以及平板顯示等。
        • API676兼容泵小坂研究所(KOSAKA)是于1950年創立,日本**家發表光學幹槓桿表面粗糙度計,具有悠久歷史與技術背景的專業廠商,主要有測定/自動/流體三大部門。XP操作系統為多種不同表面提供**的形貌分析,有半導體硅片、太陽能硅片、薄膜磁頭及磁盤、MEMS、光電子、精加工表面、生物醫學器件、薄膜/化學涂層以及平板顯示等。
        • 食品泵小坂研究所(KOSAKA)是于1950年創立,日本**家發表光學幹槓桿表面粗糙度計,具有悠久歷史與技術背景的專業廠商,主要有測定/自動/流體三大部門。XP操作系統為多種不同表面提供**的形貌分析,有半導體硅片、太陽能硅片、薄膜磁頭及磁盤、MEMS、光電子、精加工表面、生物醫學器件、薄膜/化學涂層以及平板顯示等。
        • 三螺桿泵三軸泵小坂研究所(KOSAKA)是于1950年創立,日本**家發表光學幹槓桿表面粗糙度計,具有悠久歷史與技術背景的專業廠商,主要有測定/自動/流體三大部門。XP操作系統為多種不同表面提供**的形貌分析,有半導體硅片、太陽能硅片、薄膜磁頭及磁盤、MEMS、光電子、精加工表面、生物醫學器件、薄膜/化學涂層以及平板顯示等。
        • 雙螺桿泵雙軸泵小坂研究所(KOSAKA)是于1950年創立,日本**家發表光學幹槓桿表面粗糙度計,具有悠久歷史與技術背景的專業廠商,主要有測定/自動/流體三大部門。XP操作系統為多種不同表面提供**的形貌分析,有半導體硅片、太陽能硅片、薄膜磁頭及磁盤、MEMS、光電子、精加工表面、生物醫學器件、薄膜/化學涂層以及平板顯示等。
        • 螺桿泵單軸泵小坂研究所(KOSAKA)是于1950年創立,日本**家發表光學幹槓桿表面粗糙度計,具有悠久歷史與技術背景的專業廠商,主要有測定/自動/流體三大部門。XP操作系統為多種不同表面提供**的形貌分析,有半導體硅片、太陽能硅片、薄膜磁頭及磁盤、MEMS、光電子、精加工表面、生物醫學器件、薄膜/化學涂層以及平板顯示等。

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