成av人免费青青久,国产精品外围在线观看,一区二区三区四区在线播放

搜索

熱門搜索：

代理日本品牌：OTSUKA大塚電子（薄膜測厚儀、相位差膜設備等）、USHIO牛尾點光源、CCS檢查光源、Aitec艾泰克、REVOX萊寶克斯、ONOSOKKI小野測器、YAMATO雅馬拓、KOSAKA小坂臺階儀、SEN特殊光源、TSUBOSAKA壺坂電機、NEWKON新光、TOKISANGYO東機產(chǎn)業(yè)、tokyokeiso東京計裝、leimac雷馬克、MIKASA米卡薩勻膠機、COSMO科斯莫、SAKURAI櫻井無塵紙、TOE東京光電子、EYE巖崎UV燈管、SANKO山高、HOYA豪雅光源、日本IMV愛睦威地震儀、HOKUYO北陽電機、SAKAGUCHI坂口電熱、ThreeBond三鍵膠水等.

產(chǎn)品中心

熱門品牌展示

產(chǎn)品展示

日本DNK科研曝光機光刻機圓晶

主要特長除近接曝光外，還可對應接觸曝光(軟接觸和硬接觸) 可對應幅度為500mm以上的大型膠片。采用獨自的光學系統(tǒng),可選擇單面曝光或雙面曝光。還能進行一燈式雙面曝光。裝載有自動對位功能。通過特殊照明實現(xiàn)透明材料的對位。除Roll to Roll外可設計枚葉式搬送等機構,根據(jù)客戶的需要構成裝置。可選擇基板臺溫度控制及掩膜冷卻規(guī)格等。(選購項)
日本DNK科研曝光機MEMS用光刻機

主要特長采用獨自的鏡面?鏡頭光學系統(tǒng),實現(xiàn)**均勻的照射。配備有可設定非接觸?面內(nèi)均一間隙的間隙傳感器和對應多層曝光的顯微鏡、X?Y?θ軸對位臺的對位系統(tǒng)。采用Moving UV mask法(使用Piezo Positioning Stage,使掩膜在曝光中微細移動)能夠控制厚膜光刻膠的側壁傾斜角度,形成三維微細構造體。
日本DNK科研曝光機MX-1205光刻機

產(chǎn)品信息實驗?研究用曝光裝置簡練設計的手動式整面單次曝光裝置。主要特長對應玻璃、Wafer、膠片等基材的實驗研究用手動整面單次曝光機。也適合小批量生產(chǎn)。可選擇接觸曝光(軟接觸、硬接觸)和近接曝光。對應*大尺寸為500mm×500mm的基板。根據(jù)用途和基板尺寸,配置有*佳組合的光學系統(tǒng)。其中包括:超高壓水銀燈(500W?1kW?2kW?3.5kW)、各種光學鏡、特殊鏡頭、聚光鏡等
日本DNK科研曝光機MX-1201E光刻機

主要特長能夠用于研究開發(fā)、試作、小批量生產(chǎn)等的直描曝光。能夠?qū)雽w、電子零件、優(yōu)異PCB、高密度封裝件、MEMS、FPD等的曝光。由于在光刻工藝中不需要掩膜，因而可以*大限度地降低開發(fā)成本和縮短市場供應時間。此外,還可以根據(jù)客戶需求,提供相應的裝置構造。
日本DNK科研曝光機MX-1201光刻機

主要特長能夠用于研究開發(fā)、試作、小批量生產(chǎn)等的直描曝光。能夠?qū)雽w、電子零件、優(yōu)異PCB、高密度封裝件、MEMS、FPD等的曝光。由于在光刻工藝中不需要掩膜，因而可以*大限度地降低開發(fā)成本和縮短市場供應時間。此外,還可以根據(jù)客戶需求,提供相應的裝置構造。
日本DNK科研曝光機MA-5301ML光刻機

主要特長搭載本公司開創(chuàng)的鏡面光學系統(tǒng)爆光燈房（LAMP HOUSE）。從而實現(xiàn)了照射面內(nèi)的均勻性以及高照度。采用本公司開創(chuàng)的同軸對位方式和高速圖像處理技術, 從而實現(xiàn)了高精度對位。還支持IR方式和背面方式。通過本公司開創(chuàng)的光學式間隙傳感器，可在非接觸狀態(tài)下高速、精的設定掩膜和基板間的近接間隙。搭載有掩膜更換機。*多可自動更換20張掩膜。 *多可搭載3臺片倉（Load port）。
日本DNK科研曝光機MA-4301M光刻機

主要特長利用本公司開創(chuàng)的高速圖像處理技術, 實現(xiàn)了Wafer與掩膜的高精度對位。裝載機側和卸載機側*多可設置兩個籃具（選購項）。備有冷卻機構，可進行基板臺與掩膜的溫度管理（選購項）。搭載本公司開創(chuàng)的鏡面光學系統(tǒng)爆光燈房（LAMP HOUSE）。從而實現(xiàn)了照射面內(nèi)的均勻性以及高照度。搭載非接觸預對位系統(tǒng)（PREALIGNER）。從而實現(xiàn)了高精度進給且保證基板不受任何損傷。搭載有自動掩膜更換機。并可支持掩膜存放庫。
日本DNK科研曝光機MA-4000光刻機

主要特長采用獨自的平行調(diào)整機構,能夠高精度地設定掩膜與Wafer間的近接間隙。利用獨自的高速圖像處理技術,實現(xiàn)高精度的對位。利用圖像處理技術,使預對位可對應薄型基板或翹曲基板及水晶等易碎Wafer(選購項)。利用獨自的接觸壓力精密控制機構,能夠使Wafer與掩膜高精度地接觸。通過Wafer的背面真空吸著方式,實現(xiàn)高速度和高精度以及穩(wěn)定的自動搬送
日本DNK科研曝光機MA-1400光刻機

產(chǎn)品信息實驗?研究用曝光裝置簡練設計的手動式整面單次曝光裝置。主要特長對應玻璃、Wafer、膠片等基材的實驗研究用手動整面單次曝光機。也適合小批量生產(chǎn)。可選擇接觸曝光(軟接觸、硬接觸)和近接曝光。對應*大尺寸為500mm×500mm的基板。根據(jù)用途和基板尺寸,配置有*佳組合的光學系統(tǒng)。其中包括:超高壓水銀燈(500W?1kW?2kW?3.5kW)、各種光學鏡、特殊鏡頭、聚光鏡等
日本DNK科研曝光機MA-1200光刻機

產(chǎn)品信息實驗?研究用曝光裝置簡練設計的手動式整面單次曝光裝置。主要特長對應玻璃、Wafer、膠片等基材的實驗研究用手動整面單次曝光機。也適合小批量生產(chǎn)。可選擇接觸曝光(軟接觸、硬接觸)和近接曝光。對應*大尺寸為500mm×500mm的基板。根據(jù)用途和基板尺寸,配置有*佳組合的光學系統(tǒng)。其中包括:超高壓水銀燈(500W?1kW?2kW?3.5kW)、各種光學鏡、特殊鏡頭、聚光鏡等。

蘇公網(wǎng)安備 32050502000409號