性xxxxxxxxx18欧美,好吊一区二区三区,免费视频拗女稀缺一区二区

搜索

熱門搜索：

代理日本品牌：OTSUKA大塚電子（薄膜測厚儀、相位差膜設(shè)備等）、USHIO牛尾點光源、CCS檢查光源、Aitec艾泰克、REVOX萊寶克斯、ONOSOKKI小野測器、YAMATO雅馬拓、KOSAKA小坂臺階儀、SEN特殊光源、TSUBOSAKA壺坂電機、NEWKON新光、TOKISANGYO東機產(chǎn)業(yè)、tokyokeiso東京計裝、leimac雷馬克、MIKASA米卡薩勻膠機、COSMO科斯莫、SAKURAI櫻井無塵紙、TOE東京光電子、EYE巖崎UV燈管、SANKO山高、HOYA豪雅光源、日本IMV愛睦威地震儀、HOKUYO北陽電機、SAKAGUCHI坂口電熱、ThreeBond三鍵膠水等.

產(chǎn)品中心

所在位置: 首頁> 產(chǎn)品目錄> DNK科研> 光刻機曝光機>

產(chǎn)品詳情

查看大圖

產(chǎn)品名稱：日本DNK科研曝光機MX-1201E光刻機
產(chǎn)品型號： MX-1201E
產(chǎn)品廠商：DNK 科研
產(chǎn)品價格：0
折扣價格：0
產(chǎn)品文檔：

你添加了1件商品查看購物車

簡單介紹：

主要特長能夠用于研究開發(fā)、試作、小批量生產(chǎn)等的直描曝光。能夠?qū)?yīng)半導(dǎo)體、電子零件、優(yōu)異PCB、高密度封裝件、MEMS、FPD等的曝光。由于在光刻工藝中不需要掩膜，因而可以*大限度地降低開發(fā)成本和縮短市場供應(yīng)時間。此外,還可以根據(jù)客戶需求,提供相應(yīng)的裝置構(gòu)造。

詳情介紹：

光刻機介紹

曝光裝置 MA-1200 基板追大尺寸 200 x 200mm ?4″ ～ ?6″

光源超高壓水銀燈：500W or 1kW

曝光裝置 MA-1400 基板追大尺寸400 x 400mm

光源超高壓水銀燈：2kW or 3.5kW

LED,LN曝光裝置MA-4000 圓晶尺寸?2～4″或者?4～6″

光源超高壓汞燈：500W 或 1kW

?200mm/?150 mm 對應(yīng)曝光裝置MA-4301M 材料SI 玻璃， 對齊精度自動對齊：+/- 1 μm（
峰值搜索）

?300mm對應(yīng)曝光裝置MA-5301ML 光源超高壓汞燈：3.5kW ?200mm規(guī)格也可對應(yīng)

マスクレス露光裝置MX-1201 曝光掃描速度43.94mm/s 有效曝光區(qū)域200 x 200 追大曝光量（※3）245/70/245+70
マスクレス露光裝置MX-1201E 曝光掃描速度22.5mm/s 有效曝光區(qū)域200 x 200 追大曝光量（※3）460/70135

マスクレス露光裝置MX-1205 曝光掃描速度9/4.5mm/s 有效曝光區(qū)域100 x 100 追大曝光量（※3）100/50

主要規(guī)格

型式		MX-1201			MX-1201E		MX-1205
*小線幅 (※1)	[μm]	5			3		2	1
數(shù)據(jù)分辨率	[μm]	0.488			0.25		0.1	0.05
*大基板尺寸	[mm]	200 x 200			200 x 200		100 x 100
有效曝光范圍	[mm]	200 x 200			200 x 200		100 x 100
激光主波長	[nm]	405	375	405 + 375	405	375	375
曝光掃描速度	[mm/s]	43.94			22.5		9	4.5
節(jié)拍時間	[s,min]	180 [s]			320 [s]		16 [min]	27 [min]
*大曝光量	[mJ/c㎡]	245	70	245 + 70	460	135	50	100

產(chǎn)品留言

標題

聯(lián)系人

聯(lián)系電話

內(nèi)容

驗證碼

點擊換一張

注：1.可以使用快捷鍵Alt+S或Ctrl+Enter發(fā)送信息!
2.如有必要,請您留下您的詳細聯(lián)系方式!

蘇公網(wǎng)安備 32050502000409號

產(chǎn)品名稱：日本DNK科研曝光機MX-1201E光刻機

主要規(guī)格