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        • 它是一種通過使用顯微光譜測量微小區(qū)域內(nèi)的優(yōu)良反射率,實(shí)現(xiàn)高精度膜厚和光學(xué)常數(shù)分析的設(shè)備。 可以以非破壞性和非接觸的方式測量各種薄膜、晶片、光學(xué)材料和多層薄膜等鍍膜的厚度。可進(jìn)行1秒/點(diǎn)測量時(shí)間的高速測量。它還配備了軟件,即使是初學(xué)者也可以輕松分析光學(xué)常數(shù)。
        • 能夠從低亮度到高亮度進(jìn)行高速、高精度測量的光譜輻射亮度計(jì)。 大冢電子獨(dú)特的光譜光學(xué)設(shè)計(jì)和信號處理電路采用電子冷卻線陣傳感器,實(shí)現(xiàn)了在寬亮度范圍和波長范圍內(nèi)的低噪聲和高精度測量。
        • 支持紫外到近紅外區(qū)域的多功能多通道光譜檢測器。光譜光譜可以在*少 5 ms 內(nèi)測量。標(biāo)準(zhǔn)光纖可以在不指定樣品類型的情況下支持各種測量系統(tǒng)。除了顯微光譜、光源發(fā)射、透射/反射測量外,還可以通過結(jié)合軟件支持物體顏色評估、膜厚測量等。
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