產(chǎn)品名稱：OTSUKA大冢-膜厚監(jiān)視器FE-300

   OTSUKA大冢-膜厚監(jiān)視器

是一種通過(guò)簡(jiǎn)單操作實(shí)現(xiàn)高精度光干涉法的膜厚測(cè)量的小型低價(jià)格的膜厚計(jì)。
采用將必要的機(jī)器收納在機(jī)身部位的一體化體型外殼，實(shí)現(xiàn)了穩(wěn)定的數(shù)據(jù)的獲取
通過(guò)獲取低價(jià)位的優(yōu)良反射率，也可以進(jìn)行光學(xué)常數(shù)的分析。

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特長(zhǎng)。
支持從薄膜到厚膜的廣泛膜厚。
使用反射光譜的膜厚分析。
緊湊、低價(jià)位，但不接觸、非破壞，實(shí)現(xiàn)高精度測(cè)量。
條件設(shè)定和測(cè)量操作簡(jiǎn)單！任何人都可以輕松進(jìn)行膜厚測(cè)量。
通過(guò)非線性*小二乘法、優(yōu)化法、PV法、FFT分析法等可進(jìn)行廣泛種類的膜厚測(cè)量。
非線性*小二乘法的膜厚分析算法使光學(xué)常數(shù)分析(n:折射率，k:衰退計(jì)數(shù))成為可能。

測(cè)量項(xiàng)目。
優(yōu)良的反射率測(cè)量。
膜厚分析(10層)。
光學(xué)常數(shù)分析(n:折射率，k:衰退計(jì)數(shù))。

用途。
功能性薄膜、塑料。
透明導(dǎo)電膜(ITO、銀納米線)、相差膜、偏振膜、AR膜、PET、PEN、TAC、PP、PC、PE、PVA、粘合劑、保護(hù)膜、外殼。防指紋劑。
半導(dǎo)體。
化合物半導(dǎo)體、Si、氧化膜、氮化膜、Resist、SiC、GaAs、GaN、InP、InGaAs、SOI、Sapphire等。
表面的處理。
DLC涂層、防銹劑、防陰劑等。
光學(xué)材料。
過(guò)濾器、AR外套等。
FPD。
LCD(CF、ITO、LC、PI)、OLED(有機(jī)膜、密封劑，等等)。
其他。
硬盤(pán)、磁帶、建材等

*1 詳細(xì)はお問(wèn)合せください
*2 VLSI社製膜厚スタンダード（100nm SiO2/Si）の膜厚保証書(shū)記載の測(cè)定保証値範(fàn)囲に対して
*3 VLSI社製膜厚スタンダード（100nm SiO2/Si）の同一ポイント繰り返し測(cè)定時(shí)における拡張不確かさ（包括係數(shù) 2.1）

大塚電子では、光干渉法と自社製高精度分光光度計(jì)により、非接觸?非破壊かつ高速高精度な膜厚測(cè)定を可能にしています。光干渉法は、図2のような分光光度計(jì)を利用した光學(xué)系によって得られた反射率を用いて光學(xué)的膜厚を求める方法です。図1のように金屬基板上にコーティングされた膜を例にとると、対象サンプル上方から入射した光は膜の表面で反射します（R1）。さらに膜を透過(guò)した光が基板（金屬）や膜界面で反射します（R2）。このときの光路差による位相のずれによって起こる光干渉現(xiàn)象を測(cè)定し、得られた反射スペクトルと屈折率から膜厚を演算する方法を光干渉法と呼びます。解析手法は、ピークバレイ法、周波數(shù)解析法、非線形*小二乗法、*適化法の4種類があります。