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代理日本品牌：OTSUKA大塚電子（薄膜測厚儀、相位差膜設(shè)備等）、USHIO牛尾點(diǎn)光源、CCS檢查光源、Aitec艾泰克、REVOX萊寶克斯、ONOSOKKI小野測器、YAMATO雅馬拓、KOSAKA小坂臺階儀、SEN特殊光源、TSUBOSAKA壺坂電機(jī)、NEWKON新光、TOKISANGYO東機(jī)產(chǎn)業(yè)、tokyokeiso東京計(jì)裝、leimac雷馬克、MIKASA米卡薩勻膠機(jī)、COSMO科斯莫、SAKURAI櫻井無塵紙、TOE東京光電子、EYE巖崎UV燈管、SANKO山高、HOYA豪雅光源、日本IMV愛睦威地震儀、HOKUYO北陽電機(jī)、SAKAGUCHI坂口電熱、ThreeBond三鍵膠水等.
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DLS-6500series OTSUKA大冢- 動態(tài)光散射光度計(jì) 可測量使用動態(tài)光散射法的粒子直徑、粒子直徑分布（粒徑、粒徑分布）。 OTSUKA大冢- 動態(tài)光散射光度計(jì)DLS-6500seriesOTSUKA大冢- 動態(tài)光散射光度計(jì)DLS-6500seriesOTSUKA大冢- 動態(tài)光散射光度計(jì)DLS-6500series
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ELSZ-2000S OTSUKA大冢- 粒徑·分子量測量系統(tǒng)ELSZ-2000SOTSUKA大冢- 粒徑·分子量測量系統(tǒng)ELSZ-2000SOTSUKA大冢- 粒徑·分子量測量系統(tǒng)ELSZ-2000S
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nanoSAQLA OTSUKA大冢- 多檢體納米粒子直徑測量系統(tǒng)nanoSAQLAOTSUKA大冢- 多檢體納米粒子直徑測量系統(tǒng)nanoSAQLAOTSUKA大冢- 多檢體納米粒子直徑測量系統(tǒng)nanoSAQLA
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DLS-8000series OTSUKA大冢- 動態(tài)光散射光度計(jì) 用動態(tài)光散射法的粒子直徑·粒子直徑分布（粒徑·粒徑分布）測量和使用靜光散射法的優(yōu)良分子量·慣性半徑·**膽量系數(shù)的測量。OTSUKA大冢- 動態(tài)光散射光度計(jì)DLS-8000seriesOTSUKA大冢- 動態(tài)光散射光度計(jì)DLS-8000series
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ELSZ-2000S OTSUKA大冢- 電位測量系統(tǒng) OTSUKA大冢- 粒徑·分子量測量系統(tǒng)ELSZ-2000SOTSUKA大冢- 粒徑·分子量測量系統(tǒng)ELSZ-2000S
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它是一種可以使用小角度光散射方法在原位實(shí)時分析聚合物和薄膜結(jié)構(gòu)的設(shè)備。與使用 X 射線或中子的設(shè)備相比，可以評估更大的結(jié)構(gòu)（微米級）。
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可以使用動態(tài)光散射法和使用靜態(tài)光散射法測量優(yōu)良分子量/慣性半徑/**維里系數(shù)的粒度/粒度分布（粒度/粒度分布）。
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HS-1000 OTSUKA大冢-高靈敏度分光放射輝度計(jì) 從低亮度到高亮度可以高速·高精度的測量的分光輻射亮度計(jì)。 使用電子冷卻型的線性陣列傳感器，通過大冢電子獨(dú)自的分光光學(xué)設(shè)計(jì)和信號處理電路的寬亮度范圍和波長域，實(shí)現(xiàn)了低噪聲的高精度的測量。OTSUKA大冢- 高靈敏度分光放射輝度計(jì)HS-1000OTSUKA大冢- 高靈敏度分光放射輝度計(jì)HS-1000OTSUKA大冢- 高靈敏度分光放射輝度
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MCPD-9800/6800 OTSUKA大冢- 多通道分光器MCPD-9800/6800OTSUKA大冢- 多通道分光器MCPD-9800/6800OTSUKA大冢- 多通道分光器MCPD-9800/6800
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它是一種延遲測量設(shè)備，支持所有類型的薄膜，例如用于 OLED 的偏光板、層壓延遲膜和帶有 IPS 液晶延遲膜的偏光板。 實(shí)現(xiàn)與超高Re.60000 nm兼容的高速、高精度測量。 可以“無損、無剝離”地測量薄膜的層壓狀態(tài)。 此外，它還配備了簡單的軟件和校正功能，支持因樣品重新定位而導(dǎo)致的錯位，可輕松實(shí)現(xiàn)高精度測量。
