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江蘇供應HORIBA堀場大氣氨監測儀APNA-370/CU-2

江蘇供應HORIBA堀場大氣氨監測儀APNA-370/CU-2 大氣氨監測儀APNA-370/CU-2 大氣氨濃度監測裝置由將NH3氧化成NOX的轉換器單元（CU-2）和大氣污染監測用NOX分析儀（APNA-370）組成。儀器利用化學發光法（CLD）測量氨氣在臭氧的作用下生成的NOX的濃度。HORIBA研發的交替流動調制型檢測器可以確保長時間穩定可靠運行。
HORIBA大氣污染監測用氮氧化物分析儀APNA-370

國內總代HORIBA堀場大氣污染監測用氮氧化物分析儀APNA-370 APNA-370采用了雙向交替流動調制型化學發光法和相關計算法的組合，這使單檢測器有了很大的改進和提高，從而能對 NO、NO2 和 NOx 進行連續監測。這種設計也確保了良好的穩定性和高靈敏度。該儀器的標準配置中包括了一個具有自動循環功能的干燥單元，為臭氧發生器提供干燥空氣，使長期連續監測成為可能。
揚州供應HORIBA堀場離心式粒度分析儀CN-300

揚州供應HORIBA堀場離心式粒度分析儀CN-300 CN-300 的測量范圍為 10 nm - 40 μm，可施加高達 30,000g 的離心力，并使用溫度控制為各種樣品產生準確的測量結果。根據客戶反饋開發并改進現有和新的 HORIBA 技術，其結果是提供**可靠的操作，同時也易于使用的分析儀。
鄭州HORIBA堀場納米顆粒追蹤分析儀ANALYSETTE 28

杭州HORIBA堀場納米顆粒追蹤分析儀ANALYSETTE 28 ViewSizer 3000的三個激光器可同時工作，可在同一樣品中收集各種尺寸的*準確的分布和濃度信息。如果某一顆粒來自某一激光的散射光信號太強使檢測器達到飽和，軟件會自動使用來自較低功率激光器的數據來確保獲得*準確的尺寸和濃度信息。另一方面，當來自某一激光的散射光信號太弱而無法檢測時，軟件會使用更高功率激光的數據來準確跟蹤顆
杭州HORIBA堀場納米顆粒追蹤分析儀ViewSizer 3000

杭州HORIBA堀場納米顆粒追蹤分析儀ViewSizer 3000 ViewSizer 3000的三個激光器可同時工作，可在同一樣品中收集各種尺寸的*準確的分布和濃度信息。如果某一顆粒來自某一激光的散射光信號太強使檢測器達到飽和，軟件會自動使用來自較低功率激光器的數據來確保獲得*準確的尺寸和濃度信息。另一方面，當來自某一激光的散射光信號太弱而無法檢測時，軟件會使用更高功率激光的數據來準確跟蹤顆粒。
浙江HORIBA崛場半導體激光粒度分析儀mini LA-350

浙江區域供應HORIBA崛場半導體激光粒度分析儀HORIBA LA-350 激光粒度分析儀是一款性能高、價格低、體積小巧的粒徑分析儀器。LA-350廣泛應用于漿料、礦物和造紙行業等多種領域。基于LA系列分析儀的先進光學設計，LA-350實現了高性能、易操作、低維護和高效益的優點。LA-350體積小巧(297 mm x 420 mm)，可以有效節省實驗室空間。除此之外，LA-350巧妙的設計、高質量的制造確保儀器操作方便、測量范圍寬 (0.1-1000 μm)和測量結果準確。
無錫HORIBA堀場半導體激光粒度分析儀LA-960V2

無錫供應HORIBA堀場半導體激光粒度分析儀LA-960V2 LA-960V2 秉承 HORIBA 一貫的優異設計**行業方向。其直觀的軟件、特有的附件和優異的性能將科學認知推向未知世界，是LA系列儀器的突破性演變。
總代HORIBA崛場有機污染物監測儀OPSA-150

總代HORIBA崛場有機污染物監測儀OPSA-150 HORIBA推出采用具有25年以上豐富經驗的獨特測量方法---「旋轉式單元長度調整系統」的新型有機污染物監測儀。此裝置可用于以下三個主要方面：水質總量控制中排出口的有機污染物質的監測，水源地取水口處的有機污染物質的監測，工業過程中的有機污染物質的監測，如酚的監測等。
無錫有售HORIBA崛場半導體油分分析儀OCMA-550

無錫有售HORIBA崛場半導體油分分析儀OCMA-550 OCMA-550 用于測量零部件表面的殘油和土壤中粘附的油分。整個測量過程十分簡單，只需將待測樣液加入比色皿，然后放置到儀器內，即可實現測量。人性化的簡單設計，單手即可操作測量蓋的開/關。對于可以萃取的油分是*好的測量方法，如評估零部件表面的殘油，測量食物中的油分。
昆山供應HORIBA崛場半導體油分分析儀OCMA-500

昆山供應HORIBA崛場半導體油分分析儀OCMA-500 加入樣液和萃取劑后，只需要按下“ENT”鍵，就可以自動完成從萃取到排液的整個過程。無需開/關閥門的額外操作，追求測量的快速化。本機型為彩色LCD顯示屏，提升了電機攪拌速度，改進了萃取罐設計增加了背光燈，提高了可操作性。
南京供應HORIBA崛場在線監控橢偏儀UVISEL Plus In-Situ

南京供應HORIBA崛場在線監控橢偏儀UVISEL Plus In-Situ UVISEL Plus在線監控橢偏儀可以很容易的安裝在各類反應腔（PECVD、MOCVD、磁控濺射、蒸鍍、ALD和MBE），實時監控薄膜沉積或刻蝕過程。UVISEL Plus在線橢偏儀結合了速度快、靈敏度高、動態范圍寬和準確等優點，使其能夠在原子層水平監控沉積/刻蝕，即使過程速度比較快也可實現。
浙江供應HORIBA崛場真空紫外橢偏儀UVISEL2VUV

浙江供應HORIBA崛場真空紫外橢偏儀UVISEL2VUV UVISEL 2 VUV專為VUV 測量設計，整個系統處于真空狀態，無氧氣吸收。具備高準確性；超快測量速度；快速樣品室抽真空能力，方便快速更換樣品；氮氣消耗量少。光譜范圍可覆蓋147-2100nm。UVISEL 2 VUV能夠在充氮氣或抽真空模型下工作。整個機械設計經過優化，氮氣消耗量低至6L/min，載樣速度快，2分鐘內即可完成。真空樣品倉門朝向操作人員更便于樣品裝載
江蘇HORIBA崛場智能型多功能橢偏儀Smart SE

江蘇HORIBA崛場智能型多功能橢偏儀Smart SESmart SE 是一款通用型薄膜測量工具。測試速度快，準確。它可以表征幾埃到20μm薄膜厚度、光學常數（n, k）以及薄膜結構特性（如粗糙度、光學梯度及各向異性等）。Smart SE是一款性價比極高的薄膜研發工具，以經濟實惠的價格提供了研究級的性能。標配一套完整樣品可視化系統，準確定位分析位置及區域，7個不同尺寸的微光斑可用于微區特征分析。
總代HORIBA崛場橢圓偏振光譜儀UVISEL PLUS

總代HORIBA崛場橢圓偏振光譜儀UVISEL PLUS 光譜范圍從FUV到NIR：190-2100nm UVISEL Plus橢圓偏振光譜儀為先進薄膜、表面和界面表征提供了模塊化和性能的優化組合。 UVISEL Plus作為一款高準確性、高靈敏度、高穩定性的經典橢偏機型，它采用了PEM 相位調制技術，與機械旋轉部件技術相比，能提供更好的穩定性和信噪比。光譜范圍從190nm到2100nm。
HORIBA崛場一鍵式全自動快速橢偏儀 Auto SE

國內總代HORIBA崛場一鍵式全自動快速橢偏儀 Auto SEAuto SE是一種新型薄膜測量工具。僅需簡單的幾個按鈕，幾秒鐘內即可自動完成樣品測量和分析，并提供完整的薄膜特性分析報告，包括薄膜厚度、光學常數、表面粗糙度和薄膜的不均勻性、反射率或透過率。Auto SE全自動化設計、一鍵式操作，功能齊全。配備自動XYZ樣品臺進行成像分析，自動切換微光斑，多種附件可選，以滿足不同的應用需求。
江蘇HORIBA崛場納米顆粒分析儀粒度儀SZ-100V2

江蘇區域供應HORIBA崛場納米顆粒分析儀粒度儀SZ-100V2納米技術的研發是一個持續不斷的過程，這是為了能夠從原子和分子水平上控制物質的尺寸，從而獲得性能更好的材料與產品。組件的小型化——即納米級控制可以有效實現更快的測量速度、更好的設備性能以及更低的設備運行能耗。納米技術在日常生活中的諸如食品、化妝品和生命科學等很多領域發揮著關鍵作用。

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