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代理日本品牌：OTSUKA大塚電子（薄膜測厚儀、相位差膜設(shè)備等）、USHIO牛尾點光源、CCS檢查光源、Aitec艾泰克、REVOX萊寶克斯、ONOSOKKI小野測器、YAMATO雅馬拓、KOSAKA小坂臺階儀、SEN特殊光源、TSUBOSAKA壺坂電機、NEWKON新光、TOKISANGYO東機產(chǎn)業(yè)、tokyokeiso東京計裝、leimac雷馬克、MIKASA米卡薩勻膠機、COSMO科斯莫、SAKURAI櫻井無塵紙、TOE東京光電子、EYE巖崎UV燈管、SANKO山高、HOYA豪雅光源、日本IMV愛睦威地震儀、HOKUYO北陽電機、SAKAGUCHI坂口電熱、ThreeBond三鍵膠水等.

產(chǎn)品中心

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產(chǎn)品詳情

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產(chǎn)品名稱：OTSUKA大塚橢圓光譜儀 FE-5000/5000S
產(chǎn)品型號：
產(chǎn)品廠商：OTSUKA大塚電子
產(chǎn)品價格：0
折扣價格：0
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簡單介紹：

塔瑪薩崎電子（蘇州）有限公司OTSUKA大塚 Zeta電位，粒徑，分子量測量系統(tǒng) ELSZneo OTSUKA大塚橢圓光譜儀 FE-5000/5000S

詳情介紹：

特征

可在紫外可見光（300~800nm）波長范圍內(nèi)進行橢圓參數(shù)測量。
能夠?qū){米量級的多層薄膜進行膜厚分析
通過 400 個或更多通道的多通道光譜快速測量橢圓光譜
用于薄膜詳細分析的可變反射角測量
通過創(chuàng)建光學常數(shù)數(shù)據(jù)庫和添加配方注冊功能來提高可操作性

測量項目

橢圓參數(shù) （tanψ， cosΔ）測量
光學常數(shù)（n：折射率，k：消光系數(shù)）分析
膜厚分析

測量對象

半導體晶片
柵極氧化薄膜、氮化物薄膜
SiO₂，Si x Oy，SiN，SiON，SiNx，Al₂O₃罪_xO_y，多晶硅，硒化鋅，BPSG，TiN
光刻膠光學常數(shù)（波長色散）
化合物半導體
鋁_x加語_（1-x）作為多層，非晶硅
FPD
取向膜
各種新材料
DLC（類金剛石碳）、超導薄膜、磁頭薄膜
光學薄膜
TiO₂，SiO₂，防反射膜
在 G 線（436nm）、H 線（405nm）和 I 線（365nm）
等波長下進行光刻 N，K 評估

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