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        • 產品名稱:AMAYA天谷制作所高性能單片式常壓CVD裝置A200V

        • 產品型號:
        • 產品廠商:AMAYA天谷制作所
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        簡單介紹:
        氣相沉積設備 ● ±2%以內的膜厚均勻性 ● 低溫工藝對應 ● 抑制 顆粒產生 ● 提高 維護性 ● 緊湊的裝置結構 ● 提高 **性 ● 良好的臺階覆蓋性
        詳情介紹:
        概述

        在密封室中,晶圓的沉積表面通過上部夾頭向下部保持并加熱,
        同時從底部的分散頭吹出工藝氣體。
        通過夾緊,可以提高晶圓表面的溫度均勻性,實現出色的薄膜厚度均勻性。
        此外,通過防止氣體進入晶圓背面,防止背面沉積,防止顆粒粘附在晶圓上和腔室中

        設備尺寸盡可能緊湊,占用空間*小。
        密封室消除了氣體泄漏,提高了工人的**性。

        性能
        支持的晶圓尺寸 到 8 英寸
        氣體種類 SiH4, O2, PH3, B2H6, N2 (TEOS, TEB, TMOP, O3是可選的)
        沉積溫度 300~450℃
        生產力 ~15張/小時(500nm成膜時)
        規格

        設備尺寸 890mm(W) x 2300mm(D) x 2250mm(H)
        加熱機構 電阻加熱
        卸載 雙滑塊,機器人 CtoC 輸送
        分散頭
        (氣體噴嘴)
        圓形
        武漢代理AMAYA天谷制作所高性能單片式常壓CVD裝置A200V

        重慶代理AMAYA天谷制作所高性能單片式常壓CVD裝置A200V

        云南代理AMAYA天谷制作所高性能單片式常壓CVD裝置A200V

        山東代理AMAYA天谷制作所高性能單片式常壓CVD裝置A200V

        浙江代理AMAYA天谷制作所高性能單片式常壓CVD裝置A200V

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