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產品詳情
簡單介紹：
RIE-200NL 是一種負載鎖定設備，基于 RIE-10NR 的經驗，該設備具有豐富的平行平板 RIE 設備交付記錄。
詳情介紹：
概述
RIE-200NL 是一種負載鎖定設備，基于 RIE-10NR 的經驗，該設備具有豐富的平行平板 RIE 設備交付記錄。 該器件可高精度蝕刻各種硅薄膜（如 Si 和 Poly-Si）以及化合物半導體（如 GaN 和 GaAs）。 雖然價格低廉，但 PLC 控制可存儲所有自動操作和過程參數，具有卓 越的高性能性價比。
特點
配備路鎖室
氯氣工藝是可能的。 此外，還實現了良好的工藝可重復性。
? 8“ 晶圓加工
雖然是緊湊設計的節省空間的設備，但可以加工高達 ±8“ 晶圓。
全自動駕駛
操作通過觸摸屏實現全自動運行 ，通過PLC控制可進行過程管理和數據記錄。
應用示例
? 各種硅薄膜的高精度蝕刻，如 Si、Poly-Si、SiO+ 和 SiN
蝕刻化合物半導體，如GaN、GaAs和InP
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