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產(chǎn)品詳情
簡單介紹：
高密度等離子蝕刻裝置，采用電感耦合等離子體（工業(yè)塑料廣場）作為放電形式。 無負(fù)載鎖室的設(shè)備配置可實(shí)現(xiàn)低成本和節(jié)省空間，同時(shí)配備 2 個(gè)盒式磁帶。
詳情介紹：
概述
高密度等離子蝕刻裝置，采用電感耦合等離子體（工業(yè)塑料廣場）作為放電形式。 無負(fù)載鎖室的設(shè)備配置可實(shí)現(xiàn)低成本和節(jié)省空間，同時(shí)配備 2 個(gè)盒式磁帶。
特點(diǎn)
? 4“ 平面內(nèi)均勻性：± 1% 或更少，蝕刻速率：1μm/min 或更高
500 張連續(xù)加工的批次間穩(wěn)定性：±0.6%
? 追求節(jié)省空間和低成本的大氣輸送平臺(tái)
真空夾頭式輸送手在大氣中高速輸送
應(yīng)用示例
SiO+ 接觸孔加工
等離子去污
光刻膠灰化
表面改性
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