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        • 產品名稱:SAMCO ALD 設備 AL-1 原子層沉積設備

        • 產品型號:
        • 產品廠商:SAMCO薩姆肯
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        簡單介紹:
        通過提供具有數十毫秒級良好沉積效率 的脈沖,減少了原材料的損耗,提高了沉積效率。
        詳情介紹:

        概述

        AL-1通過交替向反應室提供有機金屬原料和氧化劑,僅利用表面反應進行成膜,實現了高薄膜厚度控制和良好的階梯涂層性能。 薄膜厚度可按原子層順序控制。 此外,高縱橫比的孔內壁具有良好的覆蓋性,可以均勻地沉積在薄膜厚度上。 在有機金屬材料中使用TMA和使用H_O作為反應劑的氧化鋁(AlOx)膜,在350°C的沉積溫度下具有7.5MV/cm的高擊穿強度,可作為下一代功率器件的柵極高壓膜應用。 ? 4 英寸晶圓 × 可同時形成三個晶圓。

        特點

        通過提供具有數十毫秒級良好沉積效率
        的脈沖,減少了原材料的損耗,提高了沉積效率。

        與清潔真空
        反應室內壁緊密接觸的內壁加熱器可抑制反應室內的溫度不均勻性,從而獲得清潔的真空。

        無針孔的成膜
        設計使多個原料氣體不混合在反應室內,從而防止顆粒的產生,形成無針孔的膜。

        應用示例

        下一代功率器件的柵極氧化膜和鈍化膜

        在三維結構(如 MEMS)上均勻沉積

        激光諧振器端面的沉積

        碳納米管保護膜

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