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產品名稱：SAMCO 等離子 ALD 設備 AD-230LP
產品型號：
產品廠商：SAMCO薩姆肯
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簡單介紹：

電子器件的絕緣膜、鈍化膜

詳情介紹：

概述

AD-230LP 是一種ALD（原子層沉積）設備，可控制原子級薄膜厚度。有機金屬原料和氧化劑交替供應到反應室，僅通過表面反應形成。該裝置具有負載鎖定室，不會向大氣開放反應室，因此可實現出色的可重復性沉積。

特點

原子可以更均勻地控制層。
可對高縱橫比結構進行正式成膜。
出色的平面內均勻性和可重復性，可實現穩定的工藝。
獨特的反應室結構優化了原料的氣體管路和氣流，從而抑制了顆粒。
電容耦合等離子體（CCP）方法*大限度地減少了反應室體積，縮短了氣體凈化時間，并加快了一個循環。

應用示例

氮化膜（AlN、SiN）成膜、氧化膜（AlOx、SiO2）的低溫成膜
電子器件柵極絕緣膜
半導體、有機EL等鈍化膜
半導體激光器反射面
向MEMS等三維結構成膜
石墨烯的沉積
碳納米管保護膜粉末涂層

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蘇公網安備 32050502000409號

產品名稱：SAMCO 等離子 ALD 設備 AD-230LP

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