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加熱器
膜厚量測儀 FE-300
產品信息
特 長
薄膜到厚膜的測量范圍、UV~NIR光譜分析
高性能的低價光學薄膜量測儀
藉由**反射率光譜分析膜厚
完整繼承FE-3000**機種90%的強大功能
無復雜設定，操作簡單，短時間內即可上手
線性*小平方法解析光學常數（n:折射率、k:消光系數）
測量項目
-
**反射率測量
-
膜厚解析（10層）
-
光學常數解析（n：折射率、k：消光系數）
產品規格
|
樣品尺寸 |
*大8寸晶圓（厚度5mm） |
|||
|---|---|---|---|---|
|
測量時間 |
0.1s ~ 10s以內 |
|||
|
量測口徑 |
約φ3mm |
|||
|
通訊界面 |
USB |
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|
尺寸重量 |
280（W）× 570（D）×350（H）mm，約24kg |
|||
|
軟體功能 |
||||
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標準功能 |
波峰波谷解析、FFT解析、*適化法解析、*小二乘法解析 |
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選配功能 |
材料分析軟件、薄膜模型解析、標準片解析 |
|||
※1 請于本公公司聯系聯系我們
※2 對比VLSI標準樣品（100nm SiO2/Si），范圍值同保證書所記載
※3 測量VLSI標準樣品（100nm SiO2/Si）同一點位時之重復再現性。（擴充系數2.1）
應用范圍
半導體晶圓膜（光阻、SOI、SiO2等）
光學薄膜（OC膜、AR膜、ITO、IZO膜等）
測量范例
-
PET基板上的DLC膜
-
Si基板上的SiNx
