產(chǎn)品名稱：日本大冢超高速分光干渉式膜厚儀

超高速分光干渉式膜厚儀

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以非接觸方式測量晶圓等的研磨和拋光工藝，超高速、實時、高精度測量晶圓和樹脂

產(chǎn)品詳細信息

特點

• 非接觸式，非破壞性厚度測量

• 反射光學系統(tǒng)（可從一側(cè)接觸測量）

• 高速（*高5 kHz）實時評測

• 高穩(wěn)定性（重復(fù)精度低于0.01％）

• 耐粗糙度強

• 可對應(yīng)任意距離

• 支持多層結(jié)構(gòu)（*多5層）

• 內(nèi)置NG數(shù)據(jù)消除功能

• 可進行距離（形狀）測量（使用配件嵌入式傳感器）*

*通過測量測量范圍內(nèi)的光學距離

 

Point1：獨有技術(shù)

對應(yīng)廣范圍的薄膜厚度并實現(xiàn)高波長分辨率。
采用大塚電子獨有技術(shù)制成緊湊機身。

Point2：高速對應(yīng)

即使是移動物體也可利用準確的間距測量，

是工廠生產(chǎn)線的理想選擇。

Point3：各種表面條件的樣品都可對應(yīng)

從20微米的小斑點到

各種表面條件的樣品，都可進行厚度測量。

Point4：各種環(huán)境都可對應(yīng)

因為*遠可以從200 mm的位置進行測量，

所以可根據(jù)目的和用途構(gòu)建測量環(huán)境。

測定項目

厚度測量（5層）

用途

各種厚膜的厚度

式樣

型號	SF-3/200	SF-3/300	SF-3/1300	SF-3/BB
測量厚度范圍?	5～400	10～775	50～1300	5～775
樹脂厚度范圍?	10～1000	20～1500	100～2600	10～1500
*小取樣周期kHz（μsec）	5（200）※1			-
重復(fù)精度%	0.01%以下※2
測量點徑?	約φ20以上※3
測量距離mm	50.80.120※4.200※4
光源	半導(dǎo)體光源（クラス３Ｂ相當）
解析方法	FFT解析，*適化法※5
interface	LAN，I/O入輸出端子
電源	DC24V式樣（AC電源另行銷售）
尺寸mm	123×128×224			檢出器：320×200×300      光源：260×70×300
選配	各種距離測量探頭，電源部（AC用），**眼睛      鋁參考樣品，測量光檢出目標，光纖清理器

 ＊1 ： 測量條件以及解析條件不同，*小取樣周期也不同。
＊2 ： 是產(chǎn)品出貨基準的保證值規(guī)格，是當初基準樣品AirGap約300μm和
         約1000μm測量時的相對標準偏差（ n = 20 ）
＊3 ： WD50mm探頭式樣時的設(shè)計值
＊4 ： 特別式樣
＊5 ： 薄膜測量時使用
※CE取得品是SF-3/300、SF-3/1300

基本構(gòu)成

 

測定例

 

貼合晶圓

 

 

Mapping結(jié)果
研削后300mm晶圓硅厚度