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產品名稱：UV照射裝置 ORC歐阿希 HMW-615N-3
產品型號：
產品廠商：ORC歐阿希
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簡單介紹：

UV照射裝置 ORC歐阿希 HMW-615N-3UV照射裝置 ORC歐阿希 HMW-615N-3UV照射裝置 ORC歐阿希 HMW-615N-3 ?????塔瑪薩崎電子（蘇州）有限公司系京都玉崎（日本）株式會社全資設立的中國子公司，自2014年成立以來，迅速崛起，專業從事國內貿易/國際貿易業務，主要經營光學設備、電子計測儀器、科學儀器、機械加工設備、環境試驗設備、PC周邊用品、作業工具用

詳情介紹：

	半導體製造プロセス、液晶基板製造プロセス等微細なパターンを形成する工程において、基板の表面に殘る有機物に、UVを照射して有機物汚染を非接觸で除去する裝置です。基板イダメージを與えずに表面の洗浄と改質が出來ます。		HMW-615N
		VUM-3073F

◆ 特　徴

1．	基板にダメージが少なく、有機物を分解する能力の高い獨自の低圧ＵＶランプを搭載しています。
2．	基板を揺動するモードを利用すると、基板にUV光量が均等に照射されます。
3．	基板はあまり加熱されません。
4．	オゾンをカットする照射方式も、窒素ガスをパージする照射方式も適用できます。

◆ 仕　様

型式	HMW-615N-3	HMW-615N-4	VUM-3073F
使用ランプ	低圧ＵＶランプ VUV-080/A-3.6U?5燈	低圧ＵＶランプ VUV-100/A-5.3U?7燈	低圧ＵＶランプ VUV-040/A-2.2U?4燈
照射距離	25mm	25mm	15mm
照射面積	300^W X 300^D	400^W X 400^D	200^W X 200^D
照射時間	0～10min(可変)		0～99min59sec(可変)
排気????除去	オゾン分解用フィルター使用
外形寸法	750^W X 700^DX 1,435^H 180kg		580^W X 500^DX 240^H 25kg

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產品名稱：UV照射裝置 ORC歐阿希 HMW-615N-3