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產(chǎn)品詳情
簡單介紹：
UEX-F8142S-RTR-UVB-PAUVB光培養(yǎng)偏光平行UV曝光設備 UNILAM優(yōu)尼光UEX-F8142S-RTR-UVB-PAUVB光培養(yǎng)偏光平行UV曝光設備 UNILAM優(yōu)尼光UEX-F8142S-RTR-UVB-PAUVB光培養(yǎng)偏光平行UV曝光設備 UNILAM優(yōu)尼光
詳情介紹：
產(chǎn)品詳情
韓國UNILAM，UVB光培養(yǎng)偏光平行UV曝光設備，UEX-F8142S-RTR-UVB-PA；
特點：
UVB（波長313nm）和UVA（波長365nm）光培養(yǎng)偏光平行UV曝光設備。
以UV（波長313nm）光源P波偏的平行光光源安裝光培養(yǎng)偏光子然后通過薄膜進行方向0°，±45°，±135°傾斜度實行光培養(yǎng)。
應用：
?大面積OLED用1/4薄膜制造，垂直驅動液晶補償薄膜，PLS模式LCD用光補償薄膜制造。
規(guī)格表：
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