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代理日本MIKASA對準曝光機 - MaskAligner -M-2LF

■ 手動操作、接觸式對準曝光機。 ■ 依照不同需求以及成本考量?有準直儀型?多面鏡型?整合（積算器）型三種曝光光源。 ■ 有可對應5×5mm~100×100mm以及1 inch~6 inch的基板的各類機種。 ■ Mask Holder?載臺的更換作業簡單易行，可在1分鐘內完成，適合用于研究開發。 ■ 對準顯微鏡的對物鏡可對應高對準精度或厚膜等用途，并且有4×、10×、20×三種。
代理日本MIKASA對準曝光機 - MaskAligner -M-1S

■ 特點 ■ 手動操作、接觸式對準曝光機。 ■ 依照不同需求以及成本考量?有準直儀型?多面鏡型?整合（積算器）型三種曝光光源。 ■ 有可對應5×5mm~100×100mm以及1 inch~6 inch的基板的各類機種。 ■ Mask Holder?載臺的更換作業簡單易行，可在1分鐘內完成，適合用于研究開發。 ■ 對準顯微鏡的對物鏡可對應高對準精度或厚膜等用途，并且有4×、10×、20×三種。

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