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塔瑪薩崎SEN日森特殊光源

使用 185nm 或 254nm 光能去除納米級有機物污漬
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使用 185nm 和 254nm 光能去除納米級有機物污漬
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配備滑動快門光源的表面處理。
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185nm 和 254nm 光能去除納米級有機物污染輸送機式裝置可均勻進行紫外線處理
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使用 185nm 和 254nm 光能去除納米級有機物污漬
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使用 185nm 和 254nm 光能去除納米級有機物污漬或改性材料表面
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185nm 和 254nm 光能可去除納米級有機物污漬，某些材料具有表面改性效果。
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使用 185nm 或 254nm 的光能去除納米級有機物污漬使用無臭氧燈在 254nm 時用作**光源。
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該設備使用 185nm 和 254nm 的紫外線能量去除工件表面的污垢。因為它是掃描儀類型，它可以均勻地紫外線照射。
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它是在真空狀態下對185nm和254nm進行輻照處理的裝置。
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該裝置使用 185nm 和 254nm 的紫外線能量去除工件表面的污垢，因為它是滑動的，因此很容易進出工件。
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185nm 或 254nm UV 去除工件表面的污垢。
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使用 185nm 和 254nm 光能去除納米級有機物污漬
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