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產(chǎn)品詳情
簡單介紹：
產(chǎn)品信息實驗?研究用曝光裝置
簡練設(shè)計的手動式整面單次曝光裝置。
主要特長
對應(yīng)玻璃、Wafer、膠片等基材的實驗研究用手動整面單次曝光機。也適合小批量生產(chǎn)。
可選擇接觸曝光(軟接觸、硬接觸)和近接曝光。
對應(yīng)*大尺寸為500mm×500mm的基板。根據(jù)用途和基板尺寸,配置有*佳組合的光學(xué)系統(tǒng)。其中包括:超高壓水銀燈(500W?1kW?2kW?3.5kW)、各種光學(xué)鏡、特殊鏡頭、聚光鏡等。
詳情介紹：
光刻機介紹
曝光裝置 MA-1200 基板追大尺寸 200 x 200mm ?4″ ～ ?6″
光源 超高壓水銀燈 ：500W or 1kW
曝光裝置 MA-1400 基板追大尺寸400 x 400mm
光源 超高壓水銀燈 ：2kW or 3.5kW
LED,LN曝光裝置MA-4000 圓晶尺寸?2～4″或者?4～6″
光源 超高壓汞燈：500W 或 1kW
?200mm/?150 mm 對應(yīng)曝光裝置MA-4301M 材料SI 玻璃， 對齊精度自動對齊：+/- 1 μm（
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?300mm對應(yīng)曝光裝置MA-5301ML 光源超高壓汞燈：3.5kW ?200mm規(guī)格也可對應(yīng)
マスクレス露光裝置MX-1201 曝光掃描速度43.94mm/s 有效曝光區(qū)域200 x 200 追大曝光量（※3）245/70/245+70
マスクレス露光裝置MX-1201E 曝光掃描速度22.5mm/s 有效曝光區(qū)域200 x 200 追大曝光量（※3）460/70135
マスクレス露光裝置MX-1205 曝光掃描速度9/4.5mm/s 有效曝光區(qū)域100 x 100 追大曝光量（※3）100/50
主要規(guī)格
MA-1200、MA-1400
| MA-1200 | MA-1400 | ||
|---|---|---|---|
| 基板尺寸 | 追大 200 x 200mm ?4″ ～ ?6″ | 追大 400 x 400mm | |
| 光源 | 超高壓水銀燈 ：500W or 1kW | 超高壓水銀燈 ：2kW or 3.5kW | |
| 外觀尺寸及重量 | 本體尺寸 | W1240 x D1100 x H1725 mm | W1440 x D1590 x H1882 mm |
| 本體重量 | 400kg | 400kg(包含無塵機房) | |
| 光源重量 | － | 250kg | |
| 選購項 | 無塵機房、背面對位、硬接觸(真空密著式)、自動對位、對應(yīng)破碎基板等特殊尺寸(需商洽)。 | ||
※基板尺寸和水銀燈瓦數(shù)及特殊規(guī)格可商洽
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