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產品名稱：描畫圖形裝置日本DNK蘇州銷售MX-1201
產品型號： MX-1201
產品廠商：DNK 科研
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簡單介紹：

利用獨自的高速描畫「Point Array方式」技術直接描畫圖形的裝置。主要特長能夠用于研究開發、試作、小批量生產等的直描曝光。能夠對應半導體、電子零件、優異PCB、高密度封裝件、MEMS、FPD等的曝光。由于在光刻工藝中不需要掩膜，因而可以*大限度地降低開發成本和縮短市場供應時間。此外,還可以根據客戶需求,提供相應的裝置構造。

詳情介紹：

主要規格

型式		MX-1201			MX-1201E		MX-1205
*小線幅 (※1)	[μm]	5			3		2	1
數據分辨率	[μm]	0.488			0.25		0.1	0.05
*大基板尺寸	[mm]	200 x 200			200 x 200		100 x 100
有效曝光范圍	[mm]	200 x 200			200 x 200		100 x 100
激光主波長	[nm]	405	375	405 + 375	405	375	375
曝光掃描速度	[mm/s]	43.94			22.5		9	4.5
節拍時間	[s,min]	180 [s]			320 [s]		16 [min]	27 [min]
*大曝光量	[mJ/c㎡]	245	70	245 + 70	460	135	50	100

※1　因光刻膠和顯影條件而異。

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蘇公網安備 32050502000409號

產品名稱：描畫圖形裝置日本DNK蘇州銷售MX-1201

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