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產品名稱：近接曝光裝置日本DNK蘇州銷售MA-6701ML
產品型號： MA-6701ML
產品廠商：DNK 科研
產品價格：0
折扣價格：0
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簡單介紹：

主要特長直立配置掩膜臺/基板臺。不需補正由掩膜/掩膜臺/基板臺的自身重量而造成的彎曲變形,構造簡單，安定性高。采用新型光學系統(tǒng),使影響圖形轉印精度的傾斜角降低至過去的一半以下(與本公司裝置相比),可實現(xiàn)更高精度的圖形轉印。完全分離本體與光源部。光源的熱量傳遞不到本體,改善了本體部的熱量分布水準。為了防止因掩膜及玻璃基板的溫度差造成的伸縮變形,可選擇基板臺溫度控制系統(tǒng)及掩膜冷卻系統(tǒng)。(選購項) *大基板尺寸為1,200mm×1,400mm。通過獨自的光學系統(tǒng)實現(xiàn)了均勻的一次性曝光。能夠裝載存放5張掩膜的掩膜存放庫

詳情介紹：

主要規(guī)格

		MA-6701ML	MA-6801ML	MA-6131ML
基板尺寸		550 x 650mm	650 x 750mm	1100 x 1300mm
掩膜尺寸		620 x 720 x t8.0mm	700 x 800 x t8.0mm	1200 x 1400 x t4.8mm
對位		非接觸預對位～自動對位
間隙		擁有傳感性能
光源		超高壓水銀燈：8kW	超高壓水銀燈：8kW	超高壓水銀燈：18kW
外觀尺寸及重量	本體尺寸	W3500 x D2720 x H2700 mm	W4150 x D3200 x H2900 mm	W11300 x D7060 x H3350 mm
	本體重量	3500kg	3800kg	12700kg
	光源重量	800kg	1150kg	4200kg
選購項		掩膜冷卻、基板臺溫度調節(jié)、溫控機房、特殊對位照明
用途		觸摸屏、彩色濾光片、有機EL、C－STN、電子紙等

※基板尺寸和水銀燈瓦數(shù)及特殊規(guī)格可商洽

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