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產品詳情

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產品名稱：光譜橢偏儀FE-5000 / 5000S
產品型號： FE-5000 / 5000S
產品廠商：OTSUKA大塚電子
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簡單介紹：

除了可以進行高精度薄膜分析的橢圓偏振光譜儀之外，我們還通過實現自動可變測量機制來支持所有類型的薄膜。除了常規的旋轉光子檢測器方法之外，通過為延遲板提供自動連接/分離機制，還提高了測量精度。　

詳情介紹：

特殊長度

可以在紫外可見光（300-800 nm）波長范圍內測量橢偏參數。
可以進行納米級的多層薄膜厚度分析
通過多通道光譜儀可快速測量橢圓偏振光，可測量400通道或更多通道
通過可變反射角測量支持對薄膜的詳細分析
通過創建光學常數數據庫并添加配方注冊功能來提高可操作性。

測量項目

橢偏參數（tanψ，cosΔ）測量
光學常數（n：折射率，k：消光系數）分析
膜厚分析

測量目標

半導體晶片
柵極氧化物薄膜，氮化物膜
SiO ₂，Si x O y，SiN，SiON，SiN x，Al ₂ O ₃，SiN _x O _y，多晶硅，ZnSe，BPSG，TiN的
光學常數（波長色散）抵抗
化合物半導體
Al _x Ga _（1-x）作為多層膜，非晶硅
FPD
取向膜
各種新材料
DLC（類金剛石），超導薄膜，磁頭薄膜
光學薄膜
TiO ₂，SiO ₂，減反射膜
在每個波長下的光刻場n，k評估，例如g線（436 nm），h線（405 nm），i線（365 nm）

產品信息
原則
規格
測量例

	反射光譜膜厚儀FE-3000
	膜厚計FE-300
	嵌入式膜厚監測儀
	多通道光譜儀MCPD-9800 / 6800
	光譜干涉晶圓測厚儀SF-3

產品名稱：光譜橢偏儀FE-5000 / 5000S

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