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特征：可以調(diào)整UV均勻度和照射距離而且適用冷卻既能可保持常溫。
應(yīng)用范圍：液晶及光培養(yǎng)物質(zhì)實驗用，高分子膜散射曝光用（線幅30μm級以上）蘇州代理 UNILAM優(yōu)尼光 研究所用散射UV曝光照射裝置蘇州代理 UNILAM優(yōu)尼光 研究所用散射UV曝光照射裝置
詳情介紹：
研究所用散射UV曝光&照射裝置
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